国务院公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》，自2026年10月15日起施行

国务院令第842号公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》，该条例已于2026年7月10日国务院第91次常务会议修订通过，自2026年10月15日起施行。条例明确布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生，保护期为10年，自登记申请之日或世界任何地方首次商业利用之日起算，以较前日期为准，且自创作完成之日起15年后不再受保护。条例还规定对集成光子、量子等功能的集成电路布图设计可依本条例予以保护。