ASML与蔡司称下一代芯片制造设备Hyper NA或10年内就绪

ASML及其光学合作伙伴Carl Zeiss的工程师在同行评审论文中表示，作为ASML最先进芯片制造设备的继任者，新一代设备“Hyper NA”预计约10年内问世。该设备将大量复用两家公司现有技术，实现更精细的电路图案化，但仍面临诸多挑战。ASML已开始研发，尚未承诺投入生产。